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Neue Produkte: Spiegel

Konkave Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit Enhanced-Silber-Beschichtung
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Konkave Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit Enhanced-Silber-Beschichtung
  • Ideal zum Fokussieren von Ti:Saphir-Lasern
  • Reflektivität > 99% zwischen 600 und 1000 nm
  • Geringe Gruppenverzögerungsdispersion von 0 ±20 fs2
  • Effektive Brennweiten von 25 mm bis 500 mm
Cailabs Canunda-Axikon Neu
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Cailabs Canunda-Axikon
  • Erzeugung eines Bessel-Strahls mit hoher Leistung durch Reflexion
  • Chromatische Dispersion wird eliminiert für Ultrakurzpuls-Laseranwendungen
  • Verschiedene Axikon-Winkel und Beschichtungen erhältlich
  • Inklusive Herstellerzertifikat zur Spezifikationenkonformität
Optotune Spiegel zur Strahllenkung Neu
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Optotune Spiegel zur Strahllenkung
  • ±50° Scanbereich
  • Protected Gold oder Silber Spiegelbeschichtungen
  • Kompakter Gehäusedurchmesser 45 mm
  • Steuerung über USB, SPI oder analogen Eingang
UltraFast Innovations (UFI) Ultrabreitbandige gechirpte Spiegelpaare Neu
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UltraFast Innovations (UFI) Ultrabreitbandige gechirpte Spiegelpaare
  • Ideal für die Dispersionskompensation in Ultrakurzpuls-Laseranwendungen
  • Ultrabreitbandiges Design für die Dispersionskompensation von Pulsen <3 fs
  • Negative GDD von -60 fs2 und durchschnittliche Rp >99% @ 650 - 1350 nm
Spiegel mit Schaft
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Spiegel mit Schaft
Oberflächenspiegel mit Rhodiumbeschichtung Neu
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Oberflächenspiegel mit Rhodiumbeschichtung
  • Extrem korrosions- und abnutzungsbeständige Rhodiumbeschichtung
  • Hohe Reflexion im VIS- und IR-Bereich
  • Ideal für zahnärztliche Anwendungen
UltraFast Innovations (UFI) Ultrakurzpulsspiegel mit positiver Dispersion Neu
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UltraFast Innovations (UFI) Ultrakurzpulsspiegel mit positiver Dispersion
UltraFast Innovations (UFI) UV-Ultrakurzpulsspiegel mit negativer Dispersion (255 - 277 nm) Neu
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UltraFast Innovations (UFI) UV-Ultrakurzpulsspiegel mit negativer Dispersion (255 - 277 nm)
  • Negative GDD von -145 fs2
  • Einfallswinkel von 5° zwischen 255 - 277 nm
  • Ideal zur Pulskompression oder Dispersionskompensation von UV-Ultrakurzpulslasern
  • Einzigartige UV-Ultrakurzpulsbeschichtung für negative Dispersion
UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Ultrakurzpulsspiegel für 1030 nm mit reduziertem thermischem Linseneffekt Neu
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UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Ultrakurzpulsspiegel für 1030 nm mit reduziertem thermischem Linseneffekt
  • Hochdispersive Ultrakurzpulsbeschichtung mit reduziertem thermischem Linseneffekt
  • Hohe negative GDD von -1000 fs2 bei 5° Einfallswinkel
  • Minimale Reflexion >99,5% (p-Polarisation) über 50 nm Bandbreite
  • Ideal zur Erzeugung von ultrakurzen Laserpulsen mit hoher Leistung
UltraFast Innovations (UFI) Ultrakurzpulsspiegel mit positiver Dispersion für 3200 nm Neu
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UltraFast Innovations (UFI) Ultrakurzpulsspiegel mit positiver Dispersion für 3200 nm
  • Positive GDD von 500 fs2 bei 5° Einfallswinkel
  • Minimale Reflexion >99,9% (p-Polarisation)
  • Breitbandige Beschichtung für mittleres IR deckt 2800 - 3600 nm ab
  • Ideal für modengekoppelte Laser im mittleren IR
UltraFast Innovations (UFI) Ultrakurzpulsspiegel mit Dispersion dritter Ordnung Neu
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UltraFast Innovations (UFI) Ultrakurzpulsspiegel mit Dispersion dritter Ordnung
  • Negative Dispersion dritter Ordnung (TOD) bis zu -2500 fs3 bei 7° Einfallswinkel
  • Ideal zum TOD-Ausgleich ohne Einführung von zusätzlicher GDD
  • Gruppenverzögerungsdispersion (GDD) von 0 fs2
  • II-VI LightSmyth™ Transmissionsgitter sind ebenfalls verfügbar
Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit Enhanced-Silber-Beschichtung
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Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit Enhanced-Silber-Beschichtung
  • Reflektivität von >99% zwischen 600 und 1000 nm
  • Geringe Gruppenverzögerungsdispersion von 0 ±20 fs2
  • Ideal für Ti:Saphir-Laser
  • Standardmäßige englische Größen verfügbar
Off-Axis-Ellipsoidspiegel
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Off-Axis-Ellipsoidspiegel
  • <100 Å Oberflächenrauheit für geringe Streuung
  • Diamantgedrehte Referenzoberflächen
  • Ideal für die endlich konjugierte Reflexion
UltraFast Innovations (UFI) Gechirpte Ultrakurzpulsspiegel mit 45° Einfallswinkel Neu
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UltraFast Innovations (UFI) Gechirpte Ultrakurzpulsspiegel mit 45° Einfallswinkel
  • Hohe Reflexion und negative Gruppenverzögerungsdispersion (GDD)
  • Ideal für die Dispersionskompensation und Strahlkompression bei 45° Einfallswinkel
  • Entwickelt für Femtosekundenlaser, einschließlich Ti: Saphir
UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Ultrakurzpulsspiegel für 1030 nm Neu
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UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Ultrakurzpulsspiegel für 1030 nm
  • Hohe negative GDD von -1000 fs2 bei 7° AOI
  • Minimale Reflektivität von >99,8% über die 60 nm Bandbreite
  • Ideal für die Dispersionskompensation von Yb:dotierten Faserlasern
  • Gechirpte Ultrakurzpuls-Beschichtung
UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Breitband-Ultrakurzpulsspiegel für 1030 nm Neu
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UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Breitband-Ultrakurzpulsspiegel für 1030 nm
  • Negative GDD von -200 fs2 bei 5° AOI
  • Reflektivität von >99,8% (p-Polarisation) zwischen 950 und 1120 nm
  • Konzipiert für die Pulskompression von Yb:dotierten Faserlasern
UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Ultrakurzpulsspiegel für 800 nm Neu
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UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Ultrakurzpulsspiegel für 800 nm
  • Reflektivität von > 99,8% (p-Polarisation) zwischen 780 und 830 nm
  • Gruppenverzögerungsdispersion (GDD) von -1300 fs2 bei 5° AOI
  • Ideal für die Pulskompression von Ti:Saphir-Ultrakurzpulslasern
UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Breitband-Ultrakurzpulsspiegel für 2 μm Neu
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UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Breitband-Ultrakurzpulsspiegel für 2 μm
  • Reflektivität von >99,9 % zwischen 2000 und 2200 nm
  • GDD von -1000 fs2 bei 5° AOI
  • Ideal für die <100 fs Pulskompression von Thulium- und Holmium-Lasern
  • Breitbandbeschichtung für gechirpte Ultrakurzpulse
Unbeschichtete konkave Laserlinienspiegel
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Unbeschichtete konkave Laserlinienspiegel
  • Hochpräzise Spiegelsubstrate aus Quarzglas
  • Große Auswahl an Durchmessern und Brennweiten
  • Benutzerdefinierte Beschichtungen erhältlich
Hochqualitative Ultrakurzpulsspiegel mit geringer GDD
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Hochqualitative Ultrakurzpulsspiegel mit geringer GDD
  • Entwickelt mit hoher Reflexion für Strahllenkungsanwendungen
  • Ionenstrahl-gesputterte (IBS) Beschichtung für geringe Streuung und Absorption
  • GDD von 0 ±20 fs2 im Design-Wellenlängenbereich
Off-Axis-Parabolspiegel mit Bohrungen zur Ausrichtung
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Off-Axis-Parabolspiegel mit Bohrungen zur Ausrichtung
  • Bohrungen zur Ausrichtung parallel zu fokussierten und kollimierten Strahlen
  • Auswahl an metallischen Beschichtungen verfügbar
  • <50 Å RMS-Oberflächenrauheit
Sphärische Spiegel für extremes ultraviolettes Licht (EUV) Neu
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Sphärische Spiegel für extremes ultraviolettes Licht (EUV)
  • Mehrschichtige Mo/Si-Beschichtung auf hochglanzpolierten Substraten
  • Maximal erreichbare Reflexion bei 13,5 nm
  • Entwickelt für EUV-Strahlfokussierungsanwendungen
  • Schmaler Durchlassbereich für HHG-Anwendungen
Konkave Laserlinienspiegel
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Konkave Laserlinienspiegel
  • Ideal für die Fokussierung von Laserlicht
  • > 99,8 % Reflexion bei Zentralwellenlänge
  • Quarzglassubstrate mit hoher Wärmebeständigkeit
Planspiegel für extrem ultraviolettes Licht (EUV-Planspiegel) Neu
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Planspiegel für extrem ultraviolettes Licht (EUV-Planspiegel)
  • Reflexion erreichbar bis 13,5 nm
  • Entwickelt zur EUV-Strahlumlenkung und Abtrennung von Oberwellen
  • Versionen für 5° und 45° Einfallswinkel erhältlich

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