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Neue Produkte: Spiegel

Ultrafast-Enhanced Silver Concave Laser Mirrors
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Ultrafast-Enhanced Silver Concave Laser Mirrors
  • Ideal for Focusing Ti:sapphire Laser Pulses
  • Reflectivity >99% between 600 - 1000nm
  • Low Group Delay Dispersion of 0 ±20fs2
  • Effective Focal Lengths from 25 to 500mm
Cailabs Canunda-Axikon Neu
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Cailabs Canunda-Axikon
  • Erzeugung eines Bessel-Strahls mit hoher Leistung durch Reflexion
  • Chromatische Dispersion wird eliminiert für Ultrakurzpuls-Laseranwendungen
  • Verschiedene Axikon-Winkel und Beschichtungen erhältlich
Optotune Spiegel zur Strahllenkung Neu
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Optotune Spiegel zur Strahllenkung
  • ±50° Scanbereich
  • Protected Gold oder Silber Spiegelbeschichtungen
  • Kompakter Gehäusedurchmesser 45 mm
  •  Steuerung über USB, SPI oder analogen Eingang
Ultrafast-Enhanced Silver Laser Mirrors
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Ultrafast-Enhanced Silver Laser Mirrors
  • Reflectivity >99% between 600 - 1000nm
  • Low Group Delay Dispersion of 0 ±20fs2
  • Ideal for Ti:sapphire Lasers
  • Standard Imperial Sizes Available
Off-Axis Ellipsoidal Mirrors
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Off-Axis Ellipsoidal Mirrors
  • <100Å Surface Roughness for Low Scatter
  • Diamond Turned Alignment Surfaces
  • Ideal for Finite Conjugate Reflection
45&deg; AOI Ultrafast Chirped Mirrors Neu
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45° AOI Ultrafast Chirped Mirrors
  • High Reflectivity and Negative Group Delay Dispersion (GDD)
  • Ideal for Dispersion Compensation and Beam Compression @ 45° AOI
  • Designs for Femtosecond Lasers, Including Ti:sapphire
Hochdispersive Ultrakurzpulsspiegel für 1030 nm Neu
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Hochdispersive Ultrakurzpulsspiegel für 1030 nm
  • Hohe negative GDD von -1000 fs2 bei 7° AOI
  • Reflektivität von > 99,8% (p-Polarisation) über die 60-nm-Bandbreite
  • Ideal für die Dispersionskompensation von Yb:dotierten Faserlasern
Hochdispersive Breitband-Ultrakurzpulsspiegel für 1030 nm Neu
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Hochdispersive Breitband-Ultrakurzpulsspiegel für 1030 nm
  • Negative GDD von -200 fs2 bei 5° AOI
  • Reflektivität von > 99,8% (p-Polarisation) zwischen 950 und 1120 nm
  • Konzipiert für die Pulskompression von Yb:dotierten Faserlasern
Hochdispersive Ultrakurzpulsspiegel für 800 nm Neu
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Hochdispersive Ultrakurzpulsspiegel für 800 nm
  • Reflektivität von > 99,8% (p-Polarisation) zwischen 780 und 830 nm
  • Gruppenverzögerungsdispersion (GDD) von -1300 fs2 bei 5° AOI
  • Ideal für die Pulskompression von Ti:Saphir-Ultrakurzpulslasern
2 μm hochdispersive Breitband-Ultrakurzpuls-Spiegel Neu
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2 μm hochdispersive Breitband-Ultrakurzpuls-Spiegel
  • Reflektivität von > 99,9 % zwischen 2000 und 2200 nm
  • GDD von -1000 fs2 bei 5° AOI
  • Ideal für die < 100 fs Pulskompression von Thulium- und Holmium-Lasern
  • Breitbandbeschichtung für gechirpte Ultrakurzpulse
Unbeschichtete konkave Laserlinienspiegel
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Unbeschichtete konkave Laserlinienspiegel
  • Ideal für die Fokussierung von Laserlicht
  • Hochpräzise Spiegelrohlinge aus Quarzglas
  • Benutzerdefinierte Beschichtungen erhältlich
Ultrakurzpulsspiegel mit geringer GDD
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Ultrakurzpulsspiegel mit geringer GDD
  • Entwickelt mit hoher Reflexion für Strahllenkungsanwendungen
  • Ionenstrahl-gesputterte (IBS) Beschichtung für geringe Streuung und Absorption
  • GDD von 0±20fs2 im Design-Wellenlängenbereich
Off-Axis-Parabolspiegel mit Bohrungen zur Ausrichtung
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Off-Axis-Parabolspiegel mit Bohrungen zur Ausrichtung
  • Bohrungen zur Ausrichtung parallel zu fokussierten und kollimierten Strahlen
  • Auswahl an metallischen Beschichtungen verfügbar
  • < 50 Å RMS-Oberflächenrauheit
Sphärische Spiegel für extremes ultraviolettes Licht (EUV) Neu
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Sphärische Spiegel für extremes ultraviolettes Licht (EUV)
  • Mehrschichtige Mo/Si-Beschichtung auf hochglanzpolierten Substraten
  • Maximal erreichbare Reflexion bei 13,5 nm
  • Entwickelt für EUV-Strahlfokussierungsanwendungen
  • Schmaler Durchlassbereich für HHG-Anwendungen
Konkave Laserlinienspiegel
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Konkave Laserlinienspiegel
  • Ideal für die Fokussierung von Laserlicht
  • > 99,8 % Reflexion bei Zentralwellenlänge
  • Quarzglassubstrate mit hoher Wärmebeständigkeit
Planspiegel für extrem ultraviolettes Licht (EUV-Planspiegel) Neu
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Planspiegel für extrem ultraviolettes Licht (EUV-Planspiegel)
  • Reflexion erreichbar bis 13,5 nm
  • Entwickelt zur EUV-Strahlumlenkung und Abtrennung von Oberwellen
  • Versionen für 5° und 45° Einfallswinkel erhältlich

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