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New Optical Mirrors - Optical Mirror | Edmund Optics
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Neue Produkte: Spiegel

Konkave Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit Enhanced-Silber-Beschichtung
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Konkave Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit Enhanced-Silber-Beschichtung
  • Ideal zum Fokussieren von Ti:Saphir-Lasern
  • Reflektivität > 99% zwischen 600 und 1000 nm
  • Geringe Gruppenverzögerungsdispersion von 0 ±20 fs2
  • Effektive Brennweiten von 25 mm bis 500 mm
Cailabs Canunda-Axikon Neu
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Cailabs Canunda-Axikon
  • Erzeugung eines Bessel-Strahls mit hoher Leistung durch Reflexion
  • Chromatische Dispersion wird eliminiert für Ultrakurzpuls-Laseranwendungen
  • Verschiedene Axikon-Winkel und Beschichtungen erhältlich
Optotune Spiegel zur Strahllenkung Neu
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Optotune Spiegel zur Strahllenkung
  • ±50° Scanbereich
  • Protected Gold oder Silber Spiegelbeschichtungen
  • Kompakter Gehäusedurchmesser 45 mm
  •  Steuerung über USB, SPI oder analogen Eingang
Ultrabreitbandige gechirpte Spiegelpaare Neu
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Ultrabreitbandige gechirpte Spiegelpaare
  • Ideal für die Dispersionskompensation in Ultrakurzpuls-Laseranwendungen
  • Ultrabreitbandiges Design für die Dispersionskompensation von Pulsen <3 fs
  • Negative GDD von -60 fs2 und durchschnittliche Rp >99% @ 650 - 1350 nm
Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit Enhanced-Silber-Beschichtung
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Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit Enhanced-Silber-Beschichtung
  • Reflektivität von > 99% zwischen 600 und 1000 nm
  • Geringe Gruppenverzögerungsdispersion von 0 ±20 fs2
  • Ideal für Ti:Saphir-Laser
  • Standardmäßige englische Größen verfügbar
Off-Axis-Ellipsoidspiegel
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Off-Axis-Ellipsoidspiegel
  • < 100 Å Oberflächenrauheit für geringe Streuung
  • Diamantgedrehte Referenzoberflächen
  • Ideal für die endlich konjugierte Reflexion
Gechirpte Ultrakurzpulsspiegel mit 45° Einfallswinkel Neu
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Gechirpte Ultrakurzpulsspiegel mit 45° Einfallswinkel
  • Hohe Reflexion und negative Gruppenverzögerungsdispersion (GDD)
  • Ideal für die Dispersionskompensation und Strahlkompression bei 45° Einfallswinkel
  • Entwickelt für Femtosekundenlaser, einschließlich Ti: Saphir
Hochdispersive Ultrakurzpulsspiegel für 1030 nm Neu
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Hochdispersive Ultrakurzpulsspiegel für 1030 nm
  • Hohe negative GDD von -1000 fs2 bei 7° AOI
  • Reflektivität von > 99,8% (p-Polarisation) über die 60-nm-Bandbreite
  • Ideal für die Dispersionskompensation von Yb:dotierten Faserlasern
Hochdispersive Breitband-Ultrakurzpulsspiegel für 1030 nm Neu
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Hochdispersive Breitband-Ultrakurzpulsspiegel für 1030 nm
  • Negative GDD von -200 fs2 bei 5° AOI
  • Reflektivität von > 99,8% (p-Polarisation) zwischen 950 und 1120 nm
  • Konzipiert für die Pulskompression von Yb:dotierten Faserlasern
Hochdispersive Ultrakurzpulsspiegel für 800 nm Neu
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Hochdispersive Ultrakurzpulsspiegel für 800 nm
  • Reflektivität von > 99,8% (p-Polarisation) zwischen 780 und 830 nm
  • Gruppenverzögerungsdispersion (GDD) von -1300 fs2 bei 5° AOI
  • Ideal für die Pulskompression von Ti:Saphir-Ultrakurzpulslasern
2 μm hochdispersive Breitband-Ultrakurzpulsspiegel Neu
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2 μm hochdispersive Breitband-Ultrakurzpulsspiegel
  • Reflektivität von > 99,9 % zwischen 2000 und 2200 nm
  • GDD von -1000 fs2 bei 5° AOI
  • Ideal für die < 100 fs Pulskompression von Thulium- und Holmium-Lasern
  • Breitbandbeschichtung für gechirpte Ultrakurzpulse
Unbeschichtete konkave Laserlinienspiegel
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Unbeschichtete konkave Laserlinienspiegel
  • Ideal für die Fokussierung von Laserlicht
  • Hochpräzise Spiegelrohlinge aus Quarzglas
  • Benutzerdefinierte Beschichtungen erhältlich
Hochqualitative Ultrakurzpulsspiegel mit geringer GDD
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Hochqualitative Ultrakurzpulsspiegel mit geringer GDD
  • Entwickelt mit hoher Reflexion für Strahllenkungsanwendungen
  • Ionenstrahl-gesputterte (IBS) Beschichtung für geringe Streuung und Absorption
  • GDD von 0 ±20 fs2 im Design-Wellenlängenbereich
Off-Axis-Parabolspiegel mit Bohrungen zur Ausrichtung
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Off-Axis-Parabolspiegel mit Bohrungen zur Ausrichtung
  • Bohrungen zur Ausrichtung parallel zu fokussierten und kollimierten Strahlen
  • Auswahl an metallischen Beschichtungen verfügbar
  • < 50 Å RMS-Oberflächenrauheit
Sphärische Spiegel für extremes ultraviolettes Licht (EUV)
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Sphärische Spiegel für extremes ultraviolettes Licht (EUV)
  • Mehrschichtige Mo/Si-Beschichtung auf hochglanzpolierten Substraten
  • Maximal erreichbare Reflexion bei 13,5 nm
  • Entwickelt für EUV-Strahlfokussierungsanwendungen
  • Schmaler Durchlassbereich für HHG-Anwendungen
Konkave Laserlinienspiegel
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Konkave Laserlinienspiegel
  • Ideal für die Fokussierung von Laserlicht
  • > 99,8 % Reflexion bei Zentralwellenlänge
  • Quarzglassubstrate mit hoher Wärmebeständigkeit
Planspiegel für extrem ultraviolettes Licht (EUV-Planspiegel)
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Planspiegel für extrem ultraviolettes Licht (EUV-Planspiegel)
  • Reflexion erreichbar bis 13,5 nm
  • Entwickelt zur EUV-Strahlumlenkung und Abtrennung von Oberwellen
  • Versionen für 5° und 45° Einfallswinkel erhältlich

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