- GDD von ±20 fs2 im angegebenen Wellenlängenbereich
- Mehr als 99,9% Reflexion
- Ideal für Ti:Saphir- und Ytterbium-dotierte Laser
- Ultrakurzpuls-Enhanced-Silber-Beschichtung für Ti:Saphir-Laser und Yb-dotierte Laser
- Geringe Gruppenverzögerungsdispersion
- <50 Å RMS Oberflächenrauheit zur Minimierung von Streuung
- Entwickelt mit hoher Reflexion für Strahllenkungsanwendungen
- Ionenstrahl-gesputterte (IBS) Beschichtung für geringe Streuung und Absorption
- GDD von 0 ±20 fs2 im Design-Wellenlängenbereich
- Hohe Reflexion & geringe GDD für die Umlenkung von Ultrakurzpulsstrahlen
- Ionenstrahlgesputterte Beschichtungen (IBS) minimieren Streuung und Absorptionsverlust
- GDD von nahezu Null für erste und zweite Harmonische von Ti:Saphir-Lasern und Yb-dotierten Lasern
- Reflektivität von >99% zwischen 600 - 1000 nm oder 800 - 1150 nm
- Geringe Gruppenverzögerungsdispersion von bis zu 0 ±20 fs2
- Ideal für Ti:Saphir-Laser und Yb:dotierte Laser
- Standardmäßige englische Größen verfügbar
- TECHSPEC® Konkave Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit Enhanced-Silber-Beschichtung ebenfalls verfügbar
- Ideal zur Laserpulsfokussierung von Ti:Saphir-Lasern und Yb-dotierten Lasern
- Reflektivität >99% zwischen 600 und 1000 nm
- Geringe Gruppenverzögerungsdispersion von 0 ±20 fs2
- Effektive Brennweiten von 25 mm bis 500 mm
- TECHSPEC® Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit Enhanced-Silber-Beschichtung ebenfalls verfügbar
- Mehr als 99% Reflexion
- Beschichtungen verfügbar von 360 bis 3300 nm
- Geringe Gruppenverzögerungsdispersion (GDD)
- Ebenfalls erhältlich sind TECHSPEC® hochqualitative Ultrakurzpulsspiegel mit geringer GDD
- Hohe laserinduzierte Zerstörschwelle bei Designwellenlänge
- Hohe Reflexion für S- und P-Polarisation
- Ideal für Ultrakurzpuls-Laseranwendungen mit hoher Leistung
- Ebenfalls erhältlich sind TECHSPEC® hochqualitative Ultrakurzpulsspiegel mit geringer GDD
- Entwickelt für Pulse mit 330 Attosekunden @ 65 eV (19 nm)
- Mehrlagige Beschichtung mit 38% Spitzenreflexion
- Superpolierte Substrate mit ≤1 Å (Ångström) Oberflächenrauheit
- EUV-Planspiegel und sphärische EUV-Spiegel für 13,5 nm sind ebenfalls verfügbar
- Lagernd
- Keine Mindestbestellmenge und kein Mindestbestellwert
- >99,99% Reflexion bei 1030 nm und 1064 nm
- Laserzerstörschwelle von 50 J/cm2 bei 1064 nm, 100 Hz, 8 ns
- Universelle Designs für Laserpulse im Nano-, Piko- und Femtosekundenbereich
- Kundenspezifische Versionen sind bis zu einem Durchmesser von 200 mm verfügbar
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