

- Branchenführender Arbeitsabstand von 19 bis 31 mm
- Entwickelt und gefertigt von EO für Fokussierung und Bildgebung
- Aktiv ausgerichtete Spiegel für optimale Leistung
- Extrem breitbandiges Spektrum von 190 nm bis 11 µm ohne chromatische Abbildungsfehler
- TECHSPEC® Hochqualitative ReflX™ Objektive ebenfalls verfügbar


- Beugungsbegrenzte Leistung: Transmittierte Wellenfront λ/14 RMS
- Konisches Design bietet mehr Freiraum bei 45° Einfallswinkel
- Geschwungene Arme reduzieren Beugungseffekte
- TECHSPEC® ReflX™ Objektive ebenfalls verfügbar

- Niedrigerer Preis - begrenzte Zeit für ausgewählte Produkte
- Neue Objektive der Serie M Plan NIR HR und M Plan UV
- M Plan NIR HR bietet eine höhere Auflösung
- M Plan UV ist für 266 nm und 550 nm korrigiert

- Niedrigerer Preis - begrenzte Zeit für ausgewählte Produkte
- Großer Arbeitsabstand, 6 mm für 100X
- Hochqualitatives plan-apochromatisches Design
- Gute Farbwiedergabe


- Justierbar für präzisere Ausrichtung
- Verschiedene Beschichtungsmöglichkeiten für spezielle Wellenlängenbereiche verfügbar
- Drei Beschichtungsmöglichkeiten
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