

- >0,25% Reflexion bei der Designwellenlänge
- Beschichtungen für HeNe-, Dioden- und Nd:YAG-Laserquellen verfügbar
- N-BK7-Substrat
- Auch unbeschichtet oder mit Beschichtung MgF2 oder VIS 0° lieferbar


- IBS-Beschichtung sorgt für minimale Absorption und Streuung
- <0,1% Reflexion bei Nd:YAG Laserlinien
- Zertifizierte Laserzerstörschwellen bei den Designwellenlängen

- C-Achsen-Saphir, um Doppelbrechung zu beseitigen
- 10-5 Oberflächenqualität und λ/10 TWFD
- Unbeschichtet oder IBS AR-Beschichtung für 1000-1100 nm
- Ideal für Laseranwendungen mit hoher Leistung


- 10-5 Oberflächenqualität
- Zerstörschwellenangabe für Designwellenlängen
- Durchmesser von 12,5 bis 50,8 mm erhältlich
- Unbeschichtete Substrate verfügbar


- R <0,25 % für 266 nm, 355 nm, 532 nm bzw. 1064 nm
- Geringe Autofluoreszenz
- Zerstörschwellen bis 10 J/cm2 bei 10 ns, 1064 nm

- Größen zwischen 50 und 134 mm
- Speziell für Dioden-, Glasfaser- und Nd:YAG-Laser entwickelt
- Schutz für optische Systeme


- 1 mm Dicke sorgt für reduzierte GDD
- Breitbandige IBS-Antireflexbeschichtung für geringen Verlust
- Designs für Wellenlängen von 370 nm bis 2200 nm
- Beschichtungs-GDD <30 fs2
- Quarzglas-Substrate in UV- oder IR-Güte


- < 0,1% Reflexion bei Laserlinienbeschichtungen
- Versionen für Nd:YAG- und Yb:YAG-Wellenlängen
- Reduzieren typische Verluste im Lasersystem um 3% (verglichen mit einem auf 0,25% spezifizierten System mit 10 transmissiven Optiken)
- Höhere Transmission reduziert Rückreflexionen, Geisterbilder und Streulicht


- Lenkt Laserstrahl um 0,5°–5,0° ab
- Ideal zur Strahllenkung von Wellenlängen vom UV bis NIR bei 250 bis 1064 nm geeignet
- Ideal zur Lenkung von Strahlen mit hoher Leistung
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