- Beugungsbegrenzt bei Nd:YAG-Designwellenlänge
- Hohe Laserzerstörschwelle
- Präzise UV-Quarzglassubstrate
- Hochpräzise Asphären in Lasergüte sind ebenfalls verfügbar
- Garantierte Laserzerstörschwelle
- 10-5 Oberflächenqualität
- λ/10 Oberflächengenauigkeit
- λ/20 Oberflächenebenheit
- Unbeschichtet oder mit einer Auswahl an Nd:YAG Laser-Beschichtungsoptionen verfügbar
- Komplettes Datenpaket inkl. Interferogramm und Messergebnissen für geometrische Toleranzen im Lieferumfang enthalten
- Ideal für die Bildgebung
- Minimieren Aberrationen wie sphärische Aberration oder Koma
- Präzises Substrat aus Quarzglas
- Negative Brennweiten zur Strahlaufweitung oder Lichtprojektion
- Wellenlängenbereich von 200 - 2200 nm
- UV-AR-Beschichtungen verfügbar
- Negative Brennweite für Strahlaufweitung oder Lichtprojektion
- Wellenlängenbereich von 200 - 2200 nm
- Mit UV-AR-Beschichtung erhältlich
- Niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient
- Präzise und hochpräzise Versionen
- Hohe numerische Aperturen maximieren den Durchsatz
- Entwickelt und beschichtet für die Wellenlängen von Nd:YAG-Lasern
- Hohe Laserzerstörschwellen
- Geringer thermischer Ausdehnungskoeffizient
- Exzellente Transmission für 345 - 700 nm
- Ideal für NUV LEDs und Quecksilberlampen
- Günstiger Preis, verkittete Linsenpaare
- Kalziumfluorid- und UV-Quarzglaselemente
- Breitbandige Farbkorrektur von 193 nm bis 1000 nm
- Ideal für Fluoreszenzanwendungen und Spektroskopie
- Sehr gute Eigenschaften vom UV- bis zum IR-Spektrum
- Quarzglassubstrat
- Optische Oberflächenqualität für Laser geeignet
- Exzellente UV-Transmission
- Niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient
- Präzises Design
- Exzellente Transmission im UV-Bereich
- Niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient
- Kugel- und Halbkugellinsen erhältlich
- Niedriger Brechungsindex
- Vakuumgeeignetes UV-Substrat
- Unbeschichtet oder mit den breitbandigen AR-Beschichtungen VIS-NIR und NIR II verfügbar
- Mehr als 90% Transmission zwischen 350 nm und 7 μm
- Geringer Brechungsindex
- Hohe Laserzerstörschwelle
- Erzeugung von nicht-gaußschen Linienmustern
- Ideal zur Lichthomogenisierung
- Ausgezeichnete Eigenschaften zwischen 193 nm und 2,5 μm
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