Sphärische Spiegel für extremes Ultraviolett (EUV)

TECHSPEC^® Sphärische Spiegel für extremes Ultraviolett (EUV) verfügen über eine mehrschichtige Mo/Si-Beschichtung, die bei 13,5 nm eine Reflexion von mehr als 60% bietet. Sie sind für einen Einfallswinkel von 5° ausgelegt und dienen zur Fokussierung von unpolarisierten EUV-Laserquellen. Eine Oberflächenrauheit von weniger als 3 Å effektiv sorgt für minimale Streuung. Dies ist für EUV-Wellenlängen von Bedeutung, da die Streuung dort größer ist, als bei längeren Wellenlängen. TECHSPEC Sphärische EUV-Spiegel haben einen sehr schmalen Reflexionsbereich von ca. 0,5 nm, sodass nur die interessante 13,5-nm-Harmonische in HHG-Anwendungen (High Harmonic Generation) reflektiert wird. Typische Anwendungen für sphärische EUV-Spiegel sind Bildgebung mittels kohärenter Beugung (Coherent Diffractive Imaging, CDI), EUV-Bildverarbeitung und EUV-Nanomaterialbearbeitung.

Hinweis: Zum Lieferumfang gehören Testdaten für den Probespiegel der jeweiligen Fertigungsläufe.