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Metalinsen mit größerer Abbildungstiefe (EDOF)
Metalinsen mit größerer Abbildungstiefe (EDOF)
- Optionen für den Abbildungstiefenbereich von 200 – 250 mm und 50 – 62,5 mm
- Flaches Profil, ultradünn mit 0,45 mm Dicke
- Optionen für 808 nm, 1030 nm und 1064 nm
Best-Form-Sphären
- Asymmetrische Form für präzise Fokussierung und kleine Punktgröße
- Substrate aus unbeschichtetem Quarzglas mit Oberflächenqualität 10-5
- Ideal für Laseranwendungen mit hoher Leistung
Achromatische Fokussierduplets mit Luftspalt für Nd:YAG
TECHSPEC® components are designed, specified, or manufactured by Edmund Optics. Learn More
- Farbkorrigiert bei 632,8 nm und 1064 nm
- Optimiert für geringe sphärische Aberration
- Minimale Spotgröße für Werkstoffbearbeitung
Powell-Linsen
- Ideal zur Ausrichtung sowie für die industrielle Bildverarbeitung
- Mehrere Auffächerungswinkel verfügbar
- Erzeugt gleichmäßige, gerade Linie
Fast-Axis-Kollimatoren
- Asphärische Zylinderlinsen zur Fast-Axis-Kollimation
- Antireflexbeschichtet für 790 – 990 nm
- Ideal zur Kollimation von Laserdioden
- Slow-Axis-Kollimatoren sind ebenfalls verfügbar
Slow-Axis-Kollimatoren
- Zur Verwendung mit Laserdiodenbarren
- Können mit Fast-Axis-Kollimatoren kombiniert werden
- Bessere Kollimation durch geringe Krümmungsabweichung
- Fast-Axis-Kollimatoren sind ebenfalls verfügbar
Monolithische Kollimatoren
- Simultane Kollimation von Licht der schnellen und langsamen Achse einer Laserdiode
- Zirkularisierung des elliptischen Ausgangs von üblichen blauen Laserdioden
- Ideal für Lichtkollimation von Einzelemittern im blauen Spektrum
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