Mini Free-Space Optical Isolators
Neu
- Small, <1cm³, Form Factor
- Greater than 70% Minimum Transmission and >30dB Minimum Isolation
- Input Apertures as Low as 1.60mm
Jenoptik Fixed Magnification Beam Expanders
Neu
- Ideal for High-Power and Ultrashort Pulse Systems
- Fixed Magnifications Available from 1.5X to 8X
- Designed for Diffraction Limited Performance
Jenoptik Variable Magnification Beam Expanders
Neu
- Ideal for High-Power and Ultrashort Pulse Systems
- Continuous Magnifications Ranges from 1X to 10X
- Designed for Diffraction Limited Performance
Pockels-Zellen von G&H
Neu
- Leistungsstarke Phasenmodulation bis 1 MHz
- >98% Transmission vom UV- bis NIR-Spektrum
- Zerstörschwelle >10 J/cm2
- Ideal für Q-Switch, Pulsauswahl und Leistungskontrolle bei Lasern
Dichroitische Spiegel für Yb-dotierte Laser
Neu
- Hohe Reflexion bei 1030 nm und hohe Transmission bei 940 nm
- Geringe Gruppenverzögerungsdispersion (GDD) <±100 fs2
- Dichroitische Spiegel entwickelt für Ytterbium-Laser (Yb)
Breitbandige variable Ultrakurzpuls-Kompressoren
- Negative Gruppenverzögerungsdispersion für Wellenlängenbereich von 650-1350 nm mit minimaler Dispersion dritter Ordnung
- Hohe Effizienz bis zu 95% ohne Strahlabweichung
- Keine Kalibrierung notwendig
- Zusätzliche Wellenlängenbereiche verfügbar
Variable Ultrakurzpuls-Kompressoren
- Negative Gruppenverzögerungsdispersion bis -10.000 fs2 mit minimaler Dispersion dritter Ordnung
- Hohe Effizienz bis zu 99,7% ohne Strahlabweichung
- Keine Kalibrierung notwendig
- Wellenlängenoptionen für UV, Ti:Saphir, Yb-dotierte Faserlaser und mittleres IR (2 µm)
Variable Ultrakurzpuls-Stretcher
- Positive Gruppenverzögerungsdispersion bis 4000 fs2 mit minimaler Dispersion dritter Ordnung
- Hohe Effizienz bis zu 95% ohne Strahlabweichung
- Keine Kalibrierung notwendig
- Variable Ultrakurzpuls-Kompressoren verfügbar
Polarisationserhaltende Spiegel
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- Behält bei 45° Einfallswinkel zirkulare Polarisation bei
- Bis zu 99,9% Reflexion bei 532 oder 1064 nm und 80% bei 650 nm für einfache Ausrichtung
- Versionen mit 12,7 mm, 25,4 mm und 50,8 mm Durchmesser verfügbar
Dielektrische Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit geringer GDD
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- GDD von ±20 fs2 im angegebenen Wellenlängenbereich
- Mehr als 99,9% Reflexion
- Ideal für Ti:Saphir-Laser und Ytterbium-dotierte Laser
Laserlinienspiegel für 1310 nm
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- >99,8% Reflexion bei 1310 nm
- 99,5% durchschnittliche Reflexion bei 1295-1325 nm
- Hohe Laserzerstörschwelle
- Große Auswahl an Laserlinienspiegeln verfügbar
Laserlinienspiegel für 920 nm
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- >99,8% absolute Reflexion bei 920 nm
- 99,5% durchschnittliche Reflexion bei 905-935 nm
- Hohe Laserzerstörschwelle
- Große Auswahl an Laserlinienspiegeln verfügbar
Laserlinienspiegel für 2 µm
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- >99,8% Reflexion bei 2 µm
- 99,5% durchschnittliche Reflexion bei 1900-2200 nm
- Hohe Laserzerstörschwelle
- Große Auswahl an Laserlinienspiegeln verfügbar
Dualband-Laserlinienspiegel aus ZERODUR®
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- >99,5% Reflexion bei der Designwellenlänge
- Geringer Wärmeausdehnungskoeffizient
- Wellenlängenbänder 532/1064 nm oder 635/670/1064 nm
Alexandrit-Laserspiegel für 755 nm
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- >99,5% Reflexion bei 755 nm und >90% Reflexion bei 625-650 nm
- Oberflächenqualität 10-5 und Oberflächenebenheit λ/10
- Ideal für den Einsatz in dermatologischen Anwendungen
Uncoated Convex Laser Mirrors
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- High Precision Fused Silica Mirror Substrates
- Large Selection of Diameters and Focal Lengths
- Custom Coating Options Available
Ti:Saphir-Laserlinienspiegel
Neu
- >99,8% Reflexion bei Ti:Saphir-Grundfrequenz und -Harmonischen
- Oberflächenqualität 10-5 sorgt für reduzierte Streuung in Laseranwendungen
- Hohe Laserzerstörschwelle
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