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Neue Laseroptiken

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und Serienfertigung

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Mini Free-Space Optical Isolators Mini Free-Space Optical Isolators Neu
  • Small, <1cm³, Form Factor
  • Greater than 70% Minimum Transmission and >30dB Minimum Isolation
  • Input Apertures as Low as 1.60mm
Jenoptik Variable Magnification Beam Expanders Jenoptik Variable Magnification Beam Expanders Neu
  • Ideal for High-Power and Ultrashort Pulse Systems
  • Continuous Magnifications Ranges from 1X to 10X
  • Designed for Diffraction Limited Performance
Pockels-Zellen von G&H Pockels-Zellen von G&H Neu
  • Leistungsstarke Phasenmodulation bis 1 MHz
  • >98% Transmission vom UV- bis NIR-Spektrum
  • Zerstörschwelle >10 J/cm2
  • Ideal für Q-Switch, Pulsauswahl und Leistungskontrolle bei Lasern
Yb-Doped Dichroic Mirrors Dichroitische Spiegel für Yb-dotierte Laser Neu
  • Hohe Reflexion bei 1030 nm und hohe Transmission bei 940 nm
  • Geringe Gruppenverzögerungsdispersion (GDD) <±100 fs2
  • Dichroitische Spiegel entwickelt für Ytterbium-Laser (Yb)
Breitbandige variable Ultrakurzpuls-Kompressoren Breitbandige variable Ultrakurzpuls-Kompressoren
  • Negative Gruppenverzögerungsdispersion für Wellenlängenbereich von 650-1350 nm mit minimaler Dispersion dritter Ordnung
  • Hohe Effizienz bis zu 95% ohne Strahlabweichung
  • Keine Kalibrierung notwendig
  • Zusätzliche Wellenlängenbereiche verfügbar
Variable Ultrakurzpuls-Kompressoren Variable Ultrakurzpuls-Kompressoren
  • Negative Gruppenverzögerungsdispersion bis -10.000 fs2 mit minimaler Dispersion dritter Ordnung
  • Hohe Effizienz bis zu 99,7% ohne Strahlabweichung
  • Keine Kalibrierung notwendig
  • Wellenlängenoptionen für UV, Ti:Saphir, Yb-dotierte Faserlaser und mittleres IR (2 µm)
Variable Ultrakurzpuls-Stretcher Variable Ultrakurzpuls-Stretcher
  • Positive Gruppenverzögerungsdispersion bis 4000 fs2 mit minimaler Dispersion dritter Ordnung
  • Hohe Effizienz bis zu 95% ohne Strahlabweichung
  • Keine Kalibrierung notwendig
  • Variable Ultrakurzpuls-Kompressoren verfügbar
Polarization Phase Maintaining Mirrors	Polarisationserhaltende Spiegel
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  • Behält bei 45° Einfallswinkel zirkulare Polarisation bei
  • Bis zu 99,9% Reflexion bei 532 oder 1064 nm und 80% bei 650 nm für einfache Ausrichtung
  • Versionen mit 12,7 mm, 25,4 mm und 50,8 mm Durchmesser verfügbar
Dielektrische Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit geringer GDD Dielektrische Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit geringer GDD
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Neu
  • GDD von ±20 fs2 im angegebenen Wellenlängenbereich
  • Mehr als 99,9% Reflexion
  • Ideal für Ti:Saphir-Laser und Ytterbium-dotierte Laser
1300nm Laser Line Mirrors Laserlinienspiegel für 1310 nm
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Neu
  • >99,8% Reflexion bei 1310 nm
  • 99,5% durchschnittliche Reflexion bei 1295-1325 nm
  • Hohe Laserzerstörschwelle
  • Große Auswahl an Laserlinienspiegeln verfügbar
920nm Laser Line Mirrors Laserlinienspiegel für 920 nm
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Neu
  • >99,8% absolute Reflexion bei 920 nm
  • 99,5% durchschnittliche Reflexion bei 905-935 nm
  • Hohe Laserzerstörschwelle
  • Große Auswahl an Laserlinienspiegeln verfügbar
2μm Laser Line Mirrors Laserlinienspiegel für 2 µm
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Neu
  • >99,8% Reflexion bei 2 µm
  • 99,5% durchschnittliche Reflexion bei 1900-2200 nm
  • Hohe Laserzerstörschwelle
  • Große Auswahl an Laserlinienspiegeln verfügbar
Dualband-Laserlinienspiegel aus ZERODUR<sup>®</sup> Dualband-Laserlinienspiegel aus ZERODUR®
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Neu
  • >99,5% Reflexion bei der Designwellenlänge
  • Geringer Wärmeausdehnungskoeffizient
  • Wellenlängenbänder 532/1064 nm oder 635/670/1064 nm
Alexandrit-Laserspiegel für 755 nm Alexandrit-Laserspiegel für 755 nm
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Neu
  • >99,5% Reflexion bei 755 nm und >90% Reflexion bei 625-650 nm
  • Oberflächenqualität 10-5 und Oberflächenebenheit λ/10
  • Ideal für den Einsatz in dermatologischen Anwendungen
Uncoated Convex Laser Mirrors Uncoated Convex Laser Mirrors
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Neu
  • High Precision Fused Silica Mirror Substrates
  • Large Selection of Diameters and Focal Lengths
  • Custom Coating Options Available
Ti:Saphir-Laserlinienspiegel Ti:Saphir-Laserlinienspiegel Neu
  • >99,8% Reflexion bei Ti:Saphir-Grundfrequenz und -Harmonischen
  • Oberflächenqualität 10-5 sorgt für reduzierte Streuung in Laseranwendungen
  • Hohe Laserzerstörschwelle
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