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Ultrakurzpuls-Laserspiegel

Ultrakurzpuls-Laserspiegel wurden auf hohe Laserzerstörschwellen sowie eine Reflexion von mindestens 99% für ultrakurze Laserpulse ausgelegt. Diese Spiegel kompensieren die Auswirkungen der zeitlichen Dispersionsaufweitung und -kompression durch Minimierung der Gruppenlaufzeitdispersion (GDD) sowie der Gruppengeschwindigkeitsdispersion (GVD) für die definierten Wellenlängenbereiche. Die Minimierung von GDD und GVD wird durch sorgfältige Auswahl der einzelnen Beschichtungslagen und hohe Reflektivität bei gleichzeitig niedriger GDD erreicht. Ultrakurzpuls-Laserspiegel werden für diverse Anwendungen eingesetzt, beispielsweise in der Materialbearbeitung, Spektroskopie sowie Biomedizin. Edmund Optics bietet eine breite Palette von Wellenlängen- und Einfallswinkeloptionen an.

Filter
Yb-Doped Dichroic Mirrors Dichroitische Spiegel für Yb-dotierte Laser
  • Hohe Reflexion bei 1030 nm und hohe Transmission bei 940 nm
  • Geringe Gruppenverzögerungsdispersion (GDD) <±100 fs2
  • Dichroitische Spiegel entwickelt für Ytterbium-Laser (Yb)
PeakPower Ultrakurzpulsspiegel mit geringer GDD und hoher LDT PeakPower Ultrakurzpulsspiegel mit geringer GDD und hoher LDT
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  • Hohe Laserzerstörschwelle für Femtosekundenlaser über 0,75 J/cm2 für 25 fs Pulsdauer bei 920 nm
  • >99,5% Reflektivität mit Gruppenverzögerungsdispersion nahezu Null
  • Ideal für modernste Anwendungen mit Femtosekundenlasern
Dielektrische Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit geringer GDD Dielektrische Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit geringer GDD
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  • GDD von ±20 fs2 im angegebenen Wellenlängenbereich
  • Mehr als 99,9% Reflexion
  • Ideal für Ti:Saphir-Laser und Ytterbium-dotierte Laser
Hochqualitative Ultrakurzpulsspiegel mit geringer GDD Hochqualitative Ultrakurzpulsspiegel mit geringer GDD
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  • Entwickelt mit hoher Reflexion für Strahllenkungsanwendungen
  • Ionenstrahl-gesputterte (IBS) Beschichtung für geringe Streuung und Absorption
  • GDD von 0 ±20 fs2 im Design-Wellenlängenbereich
Zweibandige Ultrakurzpulsspiegel mit geringer GDD Zweibandige Ultrakurzpulsspiegel mit geringer GDD
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  • Hohe Reflexion & geringe GDD für die Umlenkung von Ultrakurzpulsstrahlen
  • Ionenstrahlgesputterte Beschichtungen (IBS) minimieren Streuung und Absorptionsverlust
  • GDD von nahezu Null für erste und zweite Harmonische von Ti:Saphir-Lasern und Yb-dotierten Lasern
Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit Enhanced-Silber-Beschichtung Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit Enhanced-Silber-Beschichtung
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UltraFast Innovations (UFI) EUV/XUV Attosecond Multilayer Mirrors UltraFast Innovations (UFI) Mehrlagige EUV/XUV-Attosekunden-Spiegel
  • Entwickelt für Pulse mit 330 Attosekunden @ 65 eV (19 nm)
  • Mehrlagige Beschichtung mit 38% Spitzenreflexion
  • Superpolierte Substrate mit ≤1 Å (Ångström) Oberflächenrauheit
  • EUV-Planspiegel und sphärische EUV-Spiegel für 13,5 nm sind ebenfalls verfügbar
  • Lagernd
  • Keine Mindestbestellmenge und kein Mindestbestellwert
UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Breitband-Ultrakurzpulsspiegel für 1030 nm UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Breitband-Ultrakurzpulsspiegel für 1030 nm
  • Negative GDD von -200 fs2 bei 5° AOI
  • Reflektivität von >99,8% (p-Polarisation) zwischen 950 und 1120 nm
  • Konzipiert für die Pulskompression von Yb:dotierten Faserlasern
Neu Ultrakurzpulsspiegel für Pikosekunden- und Femtosekunden-Laser mit hoher Leistung Ultrakurzpulsspiegel für Pikosekunden- und Femtosekunden-Laser mit hoher Leistung
UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Ultrakurzpulsspiegel für 1030 nm UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Ultrakurzpulsspiegel für 1030 nm
  • Hohe negative GDD von -1000 fs2 bei 7° AOI
  • Minimale Reflektivität von >99,8% über die 60 nm Bandbreite
  • Ideal für die Dispersionskompensation von Yb:dotierten Faserlasern
  • Gechirpte Ultrakurzpuls-Beschichtung
UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Ultrakurzpulsspiegel für 780 und 800 nm UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Ultrakurzpulsspiegel für 780 und 800 nm
  • Reflexion >99,8% (p-Polarisation) zwischen 720 - 840 nm oder 780 - 830 nm
  • Geringe Gruppenverzögerungsdispersion bei 5° oder 20° Einfallswinkel
  • Ideal für die Pulskompression von Ti:Saphir-Ultrakurzpulslasern
  • Spiegel mit geringer GDD sind ebenfalls verfügbar
Off-Axis-Parabolspiegel mit Ultrakurzpuls-Enhanced-Silber-Beschichtung Off-Axis-Parabolspiegel mit Ultrakurzpuls-Enhanced-Silber-Beschichtung
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  • Ultrakurzpuls-Enhanced-Silber-Beschichtung für Ti:Saphir-Laser und Yb-dotierte Laser
  • Geringe Gruppenverzögerungsdispersion
  • <50 Å RMS Oberflächenrauheit zur Minimierung von Streuung
TECHSPEC® Ultrafast-Enhanced Silver Concave Laser Mirrors Konkave Ultrakurzpuls-Laserspiegel mit Enhanced-Silber-Beschichtung
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UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Breitband-Ultrakurzpulsspiegel für 2 μm UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Breitband-Ultrakurzpulsspiegel für 2 μm
  • Reflektivität von >99,9% zwischen 2000 und 2200 nm
  • GDD von -1000 fs2 bei 5° AOI
  • Ideal für die <100 fs Pulskompression von Thulium- und Holmium-Lasern
  • Breitbandbeschichtung für gechirpte Ultrakurzpulse
UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm Negative Dispersion UV Ultrafast Mirrors UltraFast Innovations (UFI) UV-Ultrakurzpulsspiegel mit negativer Dispersion (255 - 277 nm)
  • Negative GDD von -145 fs2
  • Einfallswinkel von 5° zwischen 255 - 277 nm
  • Ideal zur Pulskompression oder Dispersionskompensation von UV-Ultrakurzpulslasern
  • Einzigartige UV-Ultrakurzpulsbeschichtung für negative Dispersion
UltraFast Innovations (UFI) Third Order Dispersion (TOD) Ultrafast Mirrors UltraFast Innovations (UFI) Ultrakurzpulsspiegel mit Dispersion dritter Ordnung
  • Negative Dispersion dritter Ordnung (TOD) bis zu -2500 fs3 bei 7° Einfallswinkel
  • Ideal zum TOD-Ausgleich ohne Einführung von zusätzlicher GDD
  • Gruppenverzögerungsdispersion (GDD) von 0 fs2
  • II-VI LightSmyth™ Transmissionsgitter sind ebenfalls verfügbar
UltraFast Innovations (UFI) 3200nm Highly-Positive Dispersive Ultrafast Mirrors UltraFast Innovations (UFI) Ultrakurzpulsspiegel mit positiver Dispersion für 3200 nm
  • Positive GDD von 500 fs2 bei 5° Einfallswinkel
  • Minimale Reflexion >99,9% (p-Polarisation)
  • Breitbandige Beschichtung für mittleres IR deckt 2800 - 3600 nm ab
  • Ideal für modengekoppelte Laser im mittleren IR
UltraFast Innovations (UFI) 1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors with Reduced Thermal Lensing UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Ultrakurzpulsspiegel für 1030 nm mit reduziertem thermischem Linseneffekt
  • Hochdispersive Ultrakurzpulsbeschichtung mit reduziertem thermischem Linseneffekt
  • Hohe negative GDD von -1000 fs2 bei 5° Einfallswinkel
  • Minimale Reflexion >99,5% (p-Polarisation) über 50 nm Bandbreite
  • Ideal zur Erzeugung von ultrakurzen Laserpulsen mit hoher Leistung
UltraFast Innovations (UFI) Positive Dispersion Ultrafast Mirrors UltraFast Innovations (UFI) Ultrakurzpulsspiegel mit positiver Dispersion
UltraFast Innovations (UFI) High-Power Low-Loss Laser Mirrors UltraFast Innovations (UFI) Verlustarme Laserspiegel für hohe Leistungen
  • >99,99% Reflexion bei 1030 nm und 1064 nm
  • Laserzerstörschwelle von 50 J/cm2 bei 1064 nm, 100 Hz, 8 ns
  • Universelle Designs für Laserpulse im Nano-, Piko- und Femtosekundenbereich
  • Kundenspezifische Versionen sind bis zu einem Durchmesser von 200 mm verfügbar
UltraFast Innovations (UFI) Gechirpte Ultrakurzpulsspiegel mit 45° Einfallswinkel UltraFast Innovations (UFI) Gechirpte Ultrakurzpulsspiegel mit 45° Einfallswinkel
  • Hohe Reflexion und negative Gruppenverzögerungsdispersion (GDD)
  • Ideal für die Dispersionskompensation und Strahlkompression bei 45° Einfallswinkel
  • Entwickelt für Femtosekundenlaser, einschließlich Ti: Saphir
UltraFast Innovations (UFI) Ultra-Broadband Complementary Chirped Mirror Pairs UltraFast Innovations (UFI) Gechirpte, komplementäre Ultrabreitband-Spiegelpaare
  • Ideal für Verstärkersysteme für gechirpte Pulse und ultrabreitbandige Laseroszillatoren
  • Ultrabreitbandiges Design für die Dispersionskompensation
  • Negative GDD bis zu -60 fs2 und hohe Reflexion (>99%) bei 600 - 950 nm oder 650 - 1350 nm

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