Metalinsen mit größerer Abbildungstiefe (EDOF)

Die Metalinsen mit größerer Abbildungstiefe (EDOF, Extended Depth of Focus) wurden entwickelt, um mittels Nanostrukturen im Subwellenlängenbereich eine vollständige Wellenfrontsteuerung für optische Systeme mit 808, 1030 und 1064 nm zu erreichen. Mit einer Dicke von 0,45 mm können diese Metalinsen sperrige Baugruppen mit mehreren Elementen oder Axikons durch ein einziges planares Element ersetzen und ermöglichen so die Miniaturisierung von Bildverarbeitungs- und Sensorsystemen. Diese Metalinsen haben entweder eine Brennweite von 200 mm bei einer Punktgröße von <50 µm im Bereich von 200 bis 250 mm oder eine Brennweite von 50 mm bei einer Punktgröße von <15 µm im Bereich von 50 bis 62,5 mm. Die Metalinsen mit größerer Abbildungstiefe (EDOF) eignen sich ideal für das Laserschneiden, die Lasermarkierung und die Strahlformung und sind auch mit Ultrakurzpulslasern kompatibel.

Bitte beachten Sie: Metalinsen mit größerer Abbildungstiefe (EDOF) sind sehr dünn, und die Nanostruktur sollte niemals mit anderen Oberflächen in Kontakt kommen. Tragen Sie beim Anfassen der Optik Handschuhe oder Fingerlinge. Zum Reinigen der Teile spülen Sie diese mit entmineralisiertem Wasser ab und trocknen Sie sie unter ionisiertem Luftstrom.