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Planspiegel für extrem ultraviolettes Licht (EUV-Planspiegel)

Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors

Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors


  • Reflexion erreichbar bis 13,5 nm
  • Entwickelt zur EUV-Strahlumlenkung und Abtrennung von Oberwellen
  • Versionen für 5° und 45° Einfallswinkel erhältlich

Planspiegel für extrem ultraviolettes Licht (EUV-Planspiegel) sind mehrlagige Spiegel mit maximaler Reflexion an der Designwellenlänge und im Design-Einfallwinkel. Diese Spiegel besitzen eine Beschichtung, die auf einem superpolierten Monokristallsiliziumsubstrat aufgebracht wird und weisen eine Oberflächenrauheit von unter 3 Å RMS auf. Spiegel für 45° Einfallswinkel werden zur Umlenkung von s-polarisiertem Licht eingesetzt, während Spiegel für 5° Einfallswinkel mit nicht polarisiertem Licht verwendet werden. Anwendungen in denen EUV-Spiegel eingesetzt werden schließen beispielsweise die Bildverarbeitung mittels kohärenter Beugung (CDI) und die Werkstoffforschung ein. Planspiegel für extrem ultraviolettes Licht (EUV) eignen sich auch zur Abtrennung von Oberwellen aus Laserstrahlen mit starker Oberwellenerzeugung (HHG).

Bitte beachten Sie: Testdaten für ein Muster des Spiegels aus jedem Fertigungslauf sind im Lieferumfang miteingeschlossen.

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