Flacher, mehrlagiger EUV-Attosekunden-Spiegel, 25,4 mm Durchmesser, 65 eV, 5°

• Entwickelt für Pulse mit 330 Attosekunden @ 65 eV (19 nm)
• Mehrlagige Beschichtung mit 38% Spitzenreflexion
• Superpolierte Substrate mit ≤1 Å (Ångström) Oberflächenrauheit
• EUV-Planspiegel und sphärische EUV-Spiegel für 13,5 nm sind ebenfalls verfügbar
• Lagernd
• Keine Mindestbestellmenge und kein Mindestbestellwert

Mehrlagige EUV/XUV-Attosekunden-Spiegel von UltraFast Innovations (UFI) für das extreme Ultraviolett sind für die Lenkung, Fokussierung und Formung von Attosekunden-Pulsen entwickelt worden. Die mehrlagige Beschichtung ist bei 65 eV (19 nm) zentriert und hat eine Bandbreite von 6 eV (1,8 nm). Sie bietet eine Spitzenreflexion von 38% für s-polarisiertes Licht. Die Spiegel können für EUV-Pulse mit einer zeitlichen Dauer von 330 Attosekunden eingesetzt werden. Mehrlagige EUV/XUV-Attosekunden-Spiegel sind ideal für die Erzeugung und Formung von Attosekunden-Pulsen basierend auf High Harmonic Generation (HHG), Freien-Elektronen-Lasern (FELs) oder anderen quantenoptischen Anwendungen.

Die atomare Präzision der Ionenstrahlbeschichtung führt zu atomar glatten Beschichtungslagen. Die Spiegel ermöglichen eine präzise Kontrolle von Wellenlänge und spektraler Phase mit hoher Effizienz für einen wachsenden Anwendungsbereich. Die Attosekunden-Wissenschaften setzen neue Maßstäbe für Ultrakurzpulslaser und ermöglichen Zugang zu den grundlegendsten wissenschaftlichen Prozessen wie der Bewegung von Elektronen. EUV-Spiegel werden auch als XUV-Spiegel oder Spiegel für weiche Röntgenstrahlen bezeichnet. Das physikalische Prinzip hinter den mehrlagigen EUV-Attosekunden-Spiegeln ist die Interferenz von reflektierter und gestreuter EUV-Strahlung von jeder Oberfläche der einzelnen Lagen. Es sind flache und konkave Spiegel mit 25,4 mm Durchmesser verfügbar. Bitte kontaktieren Sie uns, wenn Sie für Ihre Anwendung einen mehrlagigen Spiegel mit kundenspezifischer Zentralenergie, Bandbreite oder anderer Spezifikation benötigen.