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20X bis 100X Multifunktionsplatte

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Produkt #56-077 3-4 Tage
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Beschichtung:
Evaporated Chrome Pattern
Substrat: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More
Fused Silica (Corning 7980)
Größe (Zoll):
1 x 3
Oberflächenqualität:
10-2
Dicke (mm):
9.00
Gesamtgenauigkeit (μm):
±1.0
Parallelität (Bogenminuten):
1.00
Oberflächenebenheit (P-V):
3 - 4λ

Konformität mit Standards

RoHS 2015:
Konformitätszertifikat:
Reach 240:

Beschreibung Produktfamilie

  • Entwickelt zur Kalibrierung von Messsystemen
  • Ideal für Mikroskope und Systeme der industriellen Bildverarbeitung
  • Beinhaltet konzentrische Kreise, Gitter, Strichgitter und lineare Mikroskala
  • Zwei Platten für verschiedene Vergrößerungen erhältlich
  • NIST-zertifiziert

Mit einer einzigen Testplatte können alle Parameter eines Mikroskops und bildverarbeitenden Systems gemessen werden, ohne das weitere Testbilder benötigt werden. Ideal zur Kalibrierung und Messung von Auflösung, Verzeichnung und Schärfentiefe (DoF) unserer Mitutoyo- und Zeissmikroskopobjektive und anderer Objektive mit hoher Vergrößerung. Die Kalibrierungsplatten verfügen über Testfelder mit Liniengittern verschiedener Frequenzen, Gruppen mit Punkten und konzentrischen Kreisen unterschiedlicher Strichdicke und Abständen, eine Mikrometerskala und Kantenblöcke zum Aufbocken der Platte für DoF-Messungen. Eine Informationskarte, die komplette Anleitung auf CD und ein NIST-Zertifikat sind im Lieferumfang enthalten.

Die Kalibrierplatte mit niedrigen Frequenz eignet sich für optische Systeme mit 4X bis 20X Objektiven. Sie ist ideal für bildverarbeitende Systeme mit niedriger Vergrößerung und langen Arbeitsabständen.

Die Kalibrierplatte mit hohen Frequenzen eignet sich für optische Systeme mit 20X bis 100X Objektiven. Sie ist ideal für Mikroskope und andere Systeme mit hoher Vergrößerung und kurzen Arbeitsabständen.

Technische Informationen

4X - 20X Target Specifications - Concentric Circles
Outer Diameter (mm) Line Spacing (mm) Line Width (μm)
5.0 0.25 20
4.0 0.25 15
3.0 0.25 10
2.0 0.10 7.5
1.0 0.10 5
4X - 20X Target Specifications - Grids
Width (mm) Line Spacing (mm) Line Width (μm)
4.5 0.25 20
4.5 0.25 15
4.5 0.25 10
4.5 0.10 15
4.5 0.10 10
4.5 0.10 5
2.55 0.075 10
2.55 0.075 5
2.55 0.050 5
2.55 0.050 2.5
4X - 20X Target Specifications - Ronchi Rulings
Range (lp/mm) Frequency Change (lp/mm)
60 - 380 20
4X - 20X Target Specifications - Linear Microscale
Length (mm) Divisions/mm Microns/divisions
0 - 68.2 20 50
20X - 100X Target Specifications - Concentric Circles
Outer Diameter (mm) Line Spacing (mm) Line Width (μm)
3.0 0.25 10
2.0 0.10 7.5
1.5 0.10 5
1.0 0.05 5
1.0 0.05 2.5
20X - 100X Target Specifications - Grids
Width (mm) Line Spacing (mm) Line Width (μm)
3.0 0.25 10
3.0 0.25 7.5
3.0 0.25 5
3.0 0.10 10
3.0 0.10 7.5
3.0 0.10 5
2.55 0.075 10
2.55 0.075 5
2.55 0.050 5
2.55 0.050 2.5
20X - 100X Target Specifications - Ronchi Rulings
Range (lp/mm) Frequency Change (lp/mm)
240 - 600 10
20X - 100X Target Specifications - Linear Microscale
Length (mm) Divisions/mm Microns/divisions
0 - 68.2 20 50
 
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