Aplanatisches Objektiv aplanoXX, 1030 nm, 0,80 NA | aplanoXX NA0.8_20_1030

Beschreibung Produktfamilie

• Aplanatisches optisches Design
• Hohe numerische Apertur für kleine Punktgrößen
• Versionen für 800 und 1030 nm mit Fokustiefen bis 4 mm
• AdlOptica foXXus Multi-Fokus-Objektive sind ebenfalls verfügbar

AdlOptica aplanoXX aplanatische Objektive kompensieren sphärische Aberration und Koma, wenn sie in bis zu 4 mm Tiefe in Glas, Saphir, Siliziumkarbid, Silizium, PMMA oder anderen transparenten Materialien fokussiert werden. Die Objektive wurden für Ultrakurzpuls-Festkörperlaser oder -Faserlaser entwickelt und sind für 800 nm (Ti:Saphir) und 1030 nm (Yb:dotiert) optimiert. C-Mount-Gewinde und ein optisches System, das unempfindlich bezüglich Fehlausrichtung ist, vereinfachen die Integration dieser Objektive in Lasersysteme. AdlOptica aplanoXX aplanatische Objektive sind ideal für die Mikrobearbeitung von Glas, die 3D-Nanofabrikation, Hohlleiter-Recording und das selektive Laserätzen. Ein Ring am Objektiv ermöglicht die manuelle Einstellung des Fokus und ein austauschbares Frontfenster schützt vor Verschmutzungen während der Materialbearbeitung.