Name: Aplanatisches Objektiv aplanoXX, 1030 nm, 0,80 NA | aplanoXX NA0.8_20_1030
Brand: AdlOptica
SKU: 19-491
Price: €8.135,00

Aplanatisches Objektiv aplanoXX, 1030 nm, 0,80 NA | aplanoXX NA0.8_20_1030

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Freie Apertur CA (mm):

Designwellenlänge DWL (nm):

1030

Durchmesser (mm):

44.00

Brennweite BW (mm):

12.50

Modellnummer:

aplanoXX NA0.8_20_1030

Länge (mm):

54.10

Mount:

C-Mount

Numerische Apertur NA:

0.80

Typ:

Objective

Arbeitsabstand (mm):

2.5 (1.6 with Protective Window)

Bildfeld (°):

±0.3

Hinweis:

Includes aplanoXX objective, mounted protective window (#19-495), and spanner wrench (#19-497)

Wellenlängenbereich (nm):

1020 - 1100

100 mJ @ 5ns
300 μJ @ 1ps

Fokustiefe (mm):

0 - 4

Strahldurchmesser (mm):

20 (maximum)

Konformität mit Standards

RoHS 2015:

Konform

Konformitätszertifikat:

Anzeigen

Reach 233:

Konform

Beschreibung Produktfamilie

Aplanatisches optisches Design
Hohe numerische Apertur für kleine Punktgrößen
Versionen für 800 und 1030 nm mit Fokustiefen bis 4 mm
AdlOptica foXXus Multi-Fokus-Objektive sind ebenfalls verfügbar

AdlOptica aplanoXX aplanatische Objektive kompensieren sphärische Aberration und Koma, wenn sie in bis zu 4 mm Tiefe in Glas, Saphir, Siliziumkarbid, Silizium, PMMA oder anderen transparenten Materialien fokussiert werden. Die Objektive wurden für Ultrakurzpuls-Festkörperlaser oder -Faserlaser entwickelt und sind für 800 nm (Ti:Saphir) und 1030 nm (Yb:dotiert) optimiert. C-Mount-Gewinde und ein optisches System, das unempfindlich bezüglich Fehlausrichtung ist, vereinfachen die Integration dieser Objektive in Lasersysteme. AdlOptica aplanoXX aplanatische Objektive sind ideal für die Mikrobearbeitung von Glas, die 3D-Nanofabrikation, Hohlleiter-Recording und das selektive Laserätzen. Ein Ring am Objektiv ermöglicht die manuelle Einstellung des Fokus und ein austauschbares Frontfenster schützt vor Verschmutzungen während der Materialbearbeitung.