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AdlOptica aplanoXX aplanatische Objektive

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  • Aplanatisches optisches Design
  • Hohe numerische Apertur für kleine Punktgrößen
  • Versionen für 800 und 1030 nm mit Fokustiefen bis 4 mm
  • AdlOptica foXXus Multi-Fokus-Objektive sind ebenfalls verfügbar

AdlOptica aplanoXX aplanatische Objektive kompensieren sphärische Aberration und Koma, wenn sie in bis zu 4 mm Tiefe in Glas, Saphir, Siliziumkarbid, Silizium, PMMA oder anderen transparenten Materialien fokussiert werden. Die Objektive wurden für Ultrakurzpuls-Festkörperlaser oder -Faserlaser entwickelt und sind für 800 nm (Ti:Saphir) und 1030 nm (Yb:dotiert) optimiert. C-Mount-Gewinde und ein optisches System, das unempfindlich bezüglich Fehlausrichtung ist, vereinfachen die Integration dieser Objektive in Lasersysteme. AdlOptica aplanoXX aplanatische Objektive sind ideal für die Mikrobearbeitung von Glas, die 3D-Nanofabrikation, Hohlleiter-Recording und das selektive Laserätzen. Ein Ring am Objektiv ermöglicht die manuelle Einstellung des Fokus und ein austauschbares Frontfenster schützt vor Verschmutzungen während der Materialbearbeitung.

 
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