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Sphärische Spiegel für extremes ultraviolettes Licht (EUV)

Extreme Ultraviolet (EUV) Spherical Mirrors

Extreme Ultraviolet (EUV) Spherical Mirrors

  • Mehrschichtige Mo/Si-Beschichtung auf hochglanzpolierten Substraten
  • Maximal erreichbare Reflexion bei 13,5 nm
  • Entwickelt für EUV-Strahlfokussierungsanwendungen
  • Schmaler Durchlassbereich für HHG-Anwendungen

Sphärische Spiegel für extremes ultraviolettes Licht (EUV) verfügen über eine mehrschichtige Mo/Si-Beschichtung, die bei 13,5 nm eine Reflexion von mehr als 60 % bietet. Sie sind für einen Einfallswinkel von 5° ausgelegt und dienen zur Fokussierung von unpolarisierten EUV-Laserquellen. Eine Oberflächenrauheit von weniger als 3 Å effektiv sorgt für minimale Streuung. Dies ist für EUV-Wellenlängen von Bedeutung, da die Streuung dort größer ist, als bei längeren Wellenlängen. Sphärische EUV-Spiegel haben einen sehr schmalen Durchlassbereich von ca. 0,5 nm, sodass nur die interessierende 13,5-nm-Harmonische in HHG-Anwendungen (High Harmonic Generation) reflektiert wird. Typische Anwendungen für sphärische EUV-Spiegel sind Bildgebung mittels kohärenter Beugung (Coherent Diffractive Imaging, CDI), EUV-Bildverarbeitung und EUV-Nanomaterialbearbeitung

Hinweis: Zum Lieferumfang gehören stichprobenartige Testdaten der Fertigungsläufe für den jeweiligen Spiegel.

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