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Hochdispersiver Ultrakurzpulsspiegel für 800 nm, 12,7 mm, 5°

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UltraFast Innovations (UFI) 800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors

Produkt #12-330 9 In Stock

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Spezifikationen

Produktdetails

Typ:

Laser Mirror

Modellnummer:

HD15

Physikalische und mechanische Eigenschaften

Keilwinkel (arcmin):

10 ±5

Freie Apertur (%):

Rückseite:

Commercial Polish

Durchmesser (mm):

12.70 +0.0/-0.1

Dicke (mm):

6.35 ±0.20

Optische Eigenschaften

Reflexion bei Designwellenlänge DWL (%):

>99.9% (typical, p-polarization)

Beschichtungsspezifikation:

R_avg >99.8%, GDD = -1300 fs² @ 780 - 830nm (p-polarization)
R_abs >99.9% @ 800nm (typical, p-polarization)

GDD-Spezifikation:

-1300fs² @ 780 - 830nm

Wellenlängenbereich (nm):

780 - 830

Unregelmäßigkeit (P-V) @ 632,8 nm:

λ/10

Art der Beschichtung:

Dielectric

Beschichtung:

Ultrafast (780-830nm)

Designwellenlänge DWL (nm):

800

Einfallswinkel (°):

Fused Silica (Corning 7980)

0.3 J/cm² @ 800nm, 50fs, 1kHz, 100μm Beam Diameter

Konformität mit Standards

RoHS 2015:

Konform

Konformitätszertifikat:

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Reach 235:

Konform

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Edmund Optics bietet einen umfangreichen kundenspezifischen Fertigungsservice für Optik- und Bildverarbeitungskomponenten an, speziell hergestellt für Ihre Anwendungsanforderungen. Wir ermöglichen flexible Lösungen für Ihre Bedürfnisse – von der Prototypenphase bis zur Serienfertigung. Unsere erfahrenen IngenieurInnen freuen sich auf die Zusammenarbeit und unterstützen Sie bei jedem Projektschritt.

Unser Service beinhaltet:

Kundenspezifische Abmessungen, Materialien und mehr
Hochpräzise Oberflächenqualität und -ebenheit
Enge Toleranzen und komplexe Formen
Skalierbare Produktion – vom Prototypen zur Serie

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Produktdetails

Reflexion >99,8% (p-Polarisation) zwischen 720 - 840 nm oder 780 - 830 nm
Geringe Gruppenverzögerungsdispersion bei 5° oder 20° Einfallswinkel
Ideal für die Pulskompression von Ti:Saphir-Ultrakurzpulslasern
Spiegel mit geringer GDD sind ebenfalls verfügbar

UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Ultrakurzpulsspiegel für 780 und 800 nm verfügen über eine optimierte mehrlagige, gechirpte Ultrakurzpuls-Beschichtung, die auf dispersiver optischer Interferenz basiert und eine geringe Gruppenverzögerungsdispersion (GDD) sowie ein hohes Reflexionsvermögen bewirkt. Die Ultrakurzpulsspiegel haben eine GDD von -1300 fs² und mehr als 99,8% Reflexion für p-polarisiertes Licht. Das hochdispersive Design dieser Ultrakurzpulsspiegel ermöglicht die Kontrolle von Dispersionen dritter und höherer Ordnung und bietet somit eine hohe Strahlstabilität bei einem Einfallswinkel von entweder 5° oder 20°. UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Ultrakurzpulsspiegel für 780 und 800 nm sind ideal für die Pulskompression und Dispersionskompensation von Ultrakurzpulsen, beispielsweise von Ti:Saphir-Lasern. Die Spiegel bestehen aus Quarzglassubstraten und sind in den üblichsten englischen Größen verfügbar.

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