EUV-Planspiegel, 13,5 nm, 25,4 mm Durchm., 5° AOI

Beschreibung Produktfamilie

• Maximal erreichbare Reflexion bei 13,5 nm
• Entwickelt zur EUV-Strahlumlenkung und Abtrennung von Oberwellen
• Versionen für 5° und 45° Einfallswinkel erhältlich

TECHSPEC^® Planspiegel für extremes Ultraviolett (EUV-Planspiegel) sind mehrlagige Spiegel mit maximaler Reflexion bei der Designwellenlänge und im Design-Einfallswinkel. Diese Spiegel besitzen eine Beschichtung, die auf einem superpolierten Monokristallsiliziumsubstrat aufgebracht wird und weisen eine Oberflächenrauheit von unter 3 Å RMS auf. Spiegel für 45° Einfallswinkel werden zur Umlenkung von s-polarisiertem Licht eingesetzt, während Spiegel für 5° Einfallswinkel mit nicht polarisiertem Licht verwendet werden. Anwendungen für EUV-Spiegel sind beispielsweise die Bildverarbeitung mittels kohärenter Beugung (CDI) und die Werkstoffforschung. TECHSPEC Planspiegel für extremes Ultraviolett (EUV) eignen sich auch zur Abtrennung von Oberwellen aus Laserstrahlen mit starker Oberwellenerzeugung (HHG).

Bitte beachten Sie: Testdaten für ein Muster des Spiegels aus jedem Fertigungslauf sind im Lieferumfang miteingeschlossen.