Name: USAF-1951-Auflösungstestbild, hochauflösend, 2" x 2", negativ
SKU: 59-153
Price: €1.252,00

USAF-1951-Auflösungstestbild, hochauflösend, 2" x 2", negativ

UV Fused Silica and Fluorescent USAF 1951 Resolution Targets

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Beschichtung:

Vacuum Deposited Durable Chromium

Substrat: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More

Fused Silica (Corning 7980)

Optische Dichte OD:

>3.0

Auflösung:

Minimum: Group 0, Element 1, Maximum Group 9, Element 3

Größe (Zoll):

2 x 2

Oberflächenqualität:

20-10

Dicke (mm):

1.50

Typ:

Negative Target

Oberflächenebenheit (P-V):

2λ

Konformität mit Standards

RoHS 2015:

Konform

Konformitätszertifikat:

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Reach 240:

Konform

Beschreibung Produktfamilie

Entwickelt zur Kalibrierung von UV- oder Fluoreszenzmikroskopen
Fluoreszenztestbilder haben 365 nm Anregungswellenlänge und 550 nm Abstrahlwellenlänge
Negative, positive und hochauflösende Testbilder erhältlich

Da diese Testbilder aus Quarzglas gefertigt sind, sind sie ideal zur Kalibrierung bildverarbeitender Systeme geeignet, die UV-Beleuchtung verwenden. Sowohl das positive Quarzglastestbild (Chrommuster auf transparentem Hintergrund) als auch das negative Testbild (transparentes Muster auf Chromhintergrund) haben das Chrommuster auf der Vorderfläche.

Die fluoreszierenden Quarzglastestbilder sind ideal für Fluoreszenzanwendungen und konfokale Mikroskopie, Nanotechnologie, Photolithographie und andere bildgebende UV-Systeme. Beim positiven fluoreszierenden Quarzglastestbild (Chrommuster auf fluoreszierendem Hintergrund) ist die Fluoreszenzschicht auf der Vorderseite aufgebracht, während sie beim negativen Testbild (transparentes Muster auf Chromhintergrund) auf der Rückseite des Testbildes ist.

Bitte beachten Sie: Chrombeschichtete Oberflächen reflektieren UV-Strahlung. Vermeiden Sie eine direkte Bestrahlung von Haut und Augen. UV-Schutzbrillen sind separat erhältlich. Die fluoreszierende Beschichtung erhöht die Dicke der Auflösungstestbilder um 0,1 - 0,2 mm.

Technische Informationen

Number of Line Pairs / mm in USAF Resolving Power Test Target 1951
Element	Group Number										For High Res only
Element	-2	-1	0	1	2	3	4	5	6	7	8	9
1	0.250	0.500	1.00	2.00	4.00	8.00	16.00	32.0	64.0	128.0	256.0	512.0
2	0.280	0.561	1.12	2.24	4.49	8.98	17.95	36.0	71.8	144.0	287.0	575.0
3	0.315	0.630	1.26	2.52	5.04	10.10	20.16	40.3	80.6	161.0	323.0	645.0
4	0.353	0.707	1.41	2.83	5.66	11.30	22.62	45.3	90.5	181.0	362.0	—
5	0.397	0.793	1.59	3.17	6.35	12.70	25.39	50.8	102.0	203.0	406.0	—
6	0.445	0.891	1.78	3.56	7.13	14.30	28.50	57.0	114.0	228.0	456.0	—