Hochdispersiver Ultrakurzpulsspiegel für 800 nm, 25,4 mm, 5°

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UltraFast Innovations (UFI) 800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors

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Typ:
Laser Mirror
Keilwinkel (arcmin):
10 ±5
Freie Apertur (%):
80
Rückseite:
Commercial Polish
Reflexion bei Designwellenlänge DWL (%):
>99.9% (typical, p-polarization)
Beschichtungsspezifikation:
Ravg >99.8%, GDD = -1300 fs2 @ 780 - 830nm (p-polarization)
Rabs >99.9% @ 800nm (typical, p-polarization)
GDD-Spezifikation:
-1300fs2 @ 780 - 830nm
Wellenlängenbereich (nm):
780 - 830
Unregelmäßigkeit (P-V) @ 632,8 nm:
λ/10
Art der Beschichtung:
Dielectric
Beschichtung:
Ultrafast (780-830nm)
Designwellenlänge DWL (nm):
800
Durchmesser (mm):
25.40 +0.0/-0.1
Dicke (mm):
6.35 ±0.2
Einfallswinkel (°):
5
Substrat: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More
Fused Silica (Corning 7980)
Zerstörschwelle, laut Design: Damage threshold for optical components varies by substrate material and coating. Click here to learn more about this specification.
0.3 J/cm2 @ 800nm, 50fs, 1kHz, 100μm Beam Diameter

Konformität mit Standards

RoHS 2015:
Konformitätszertifikat:
Reach 235:

Beschreibung Produktfamilie

  • Reflexion >99,8% (p-Polarisation) zwischen 720 - 840 nm oder 780 - 830 nm
  • Geringe Gruppenverzögerungsdispersion bei 5° oder 20° Einfallswinkel
  • Ideal für die Pulskompression von Ti:Saphir-Ultrakurzpulslasern
  • Spiegel mit geringer GDD sind ebenfalls verfügbar

UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Ultrakurzpulsspiegel für 780 und 800 nm verfügen über eine optimierte mehrlagige, gechirpte Ultrakurzpuls-Beschichtung, die auf dispersiver optischer Interferenz basiert und eine geringe Gruppenverzögerungsdispersion (GDD) sowie ein hohes Reflexionsvermögen bewirkt. Die Ultrakurzpulsspiegel haben eine GDD von -1300 fs2 und mehr als 99,8% Reflexion für p-polarisiertes Licht. Das hochdispersive Design dieser Ultrakurzpulsspiegel ermöglicht die Kontrolle von Dispersionen dritter und höherer Ordnung und bietet somit eine hohe Strahlstabilität bei einem Einfallswinkel von entweder 5° oder 20°. UltraFast Innovations (UFI) Hochdispersive Ultrakurzpulsspiegel für 780 und 800 nm sind ideal für die Pulskompression und Dispersionskompensation von Ultrakurzpulsen, beispielsweise von Ti:Saphir-Lasern. Die Spiegel bestehen aus Quarzglassubstraten und sind in den üblichsten englischen Größen verfügbar.

 
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