Betriebstemperatur (°C):

-20 to +60

Aktive Fläche (mm):

5.8 x 5.8

Lagerungstemperatur (°C):

-20 to +80

Anstiegszeit (μs):

1 @ 0 V, 1 kΩ

Empfindlichkeit bei 980nm (A/W):

0.5

Ableitwiderstand @ V=-10mV (GΩ):

Minimum: 0.1
Typical: 0.4

Empfindlichkeit bei 633nm (A/W):

0.34

Empfindlichkeit bei 200nm (A/W):

0.12

Kapazität @ V_R=0V (pF):

380.00

Aktive Fläche (mm²):

34.0

Rauschäquivalente Leistung NEP (W/ Hz^1/2):

5.8 x 10^-14 @ 0 V, 200nm

Max. Sperrspannung (V):

5.00

Stecker:

Ceramic

Empfindlichkeitspeak (nm):

980.00

Konformität mit Standards

RoHS:

Konform

Konformitätszertifikat:

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Beschreibung Produktfamilie

Ausgezeichnete UV-Empfindlichkeit
Hoher Ableitwiderstand
Niedrige Kapazität

Fotodioden für den tiefen UV-Bereich eignen sich ideal für eine Vielzahl von Anwendungen, beispielsweise für die UV-Spektrophotometrie und Analyse- sowie medizinische Geräte. Die Fotodioden haben eine erhöhte Empfindlichkeit von 200 – 400 nm und erkennen auch noch Wellenlängen von 190 nm. Die Detektoren haben ein Schutzfenster aus Quarzglas und ein Metall- oder Keramikgehäuse. Modelle mit reduzierter Empfindlichkeit im Nahinfrarotbereich sind ebenfalls erhältlich.

34mm2 DUV-Fotodiode, Keramikgehäuse

Konformität mit Standards

Beschreibung Produktfamilie

34mm² DUV-Fotodiode, Keramikgehäuse