Schachbrettmuster für hochauflösende Mikroskopie

Beschreibung Produktfamilie

• Kleine Testmuster – 100 nm und 3.300 lp/mm
• Herstellung durch hochgenaue Elektronenstrahl-Lithographie
• Negative Muster

Die Testcharts in Objektträgerform für hochauflösende Mikroskopie werden durch hochpräzise Elektronenstrahl-Lithographie hergestellt. Die Testmuster werden auf ein Substrat mit breitbandiger Transmission (DUV-VIS-NIR) und 10 × 10 mm² geätzt, auf dem eine Chromschicht mit hoher optischer Dichte aufgebracht ist. Durch Entfernung der Chromschicht entstehen Muster mit Details bis zu 100 nm. Die Testcharts besitzen eine ausgezeichnete Formbeständigkeit und sind in einer metallischen Objektträgerhalterung montiert. Das negative Muster jedes Testcharts ermöglicht transparente Strukturen, der Hintergrund wird durch die Chromschicht geblockt.

USAF Testchart für hochauflösende Mikroskopie

Die USAF Testcharts für die hochauflösende Mikroskopie erlauben eine bequeme Bestimmung der Auflösungsgrenze eines Objektivs im transmittierten Licht. Sie bestehen aus 59 Linienmustern mit 7,5 bis 3.300 lp/mm in horizontaler und vertikaler Ausrichtung. Das Testchart enthält außerdem 5 Pinholes mit Durchmessern zwischen 4,0-0,25 μm zur detaillierten Charakterisierung von abbildenden Mikroskopoptiken.

Siemensstern für hochauflösende Mikroskopie

Dieses Testchart für die hochauflösende Mikroskopie besteht aus 5 Siemenssternen, bei denen die mittleren, spitz zulaufenden Strukturen mit einer Breite von nur 150 nm gefertigt wurden. Das Testchart eignet sich ideal zur Bestimmung der Auflösung von Mikroskopobjektiven mit sehr hohen numerischen Aperturen.

Schachbrettmuster für hochauflösende Mikroskopie

Das Schachbrettmuster für hochauflösende Mikroskopie besteht aus Quadraten von 50 x 50 µm² Kantenlänge und hat eine Gesamtgröße von 9,0 x 9,0 mm². Das Schachbrettmuster eignet sich durch die geraden und scharfen Kanten ideal zur Prüfung der Krümmung und Kippung eines Bildes sowie zur Bestimmung der Bildqualität.