Sie bieten viele Substrate für UV und IR an. Wie finde ich heraus, welches das beste für meine Anwendung ist?

Edmund Optics® bietet eine Vielzahl von Substraten für UV- und IR-Anwendungen an, zum Beispiel BK7, Quarzglas, Saphir, Kalziumfluorid, Zinkselenid, Silizium, Germanium und Magnesiumfluorid. Diese Substrate sind für viele unserer Standardlinsen und -fenster und eine Vielzahl weiterer Optiken verfügbar.

BK7 ist ein kostengünstiges Substrat für Anwendungen im sichtbaren und nahinfraroten Bereich. Obwohl es eine gute Transmission bis 350 nm aufweist, wird es häufig nicht für UV-Anwendungen verwendet. BK7 kann ideal für die industrielle Bildverarbeitung, die Mikroskopie und Industrieanwendungen eingesetzt werden.

Quarzglas hat einen geringen thermischer Ausdehnungskoeffizienten und eine sehr gute Transmission vom UV bis zum IR. Es kann ideal für die Interferometrie, für Lasergeräte, die Spektroskopie und Industrieanwendungen eingesetzt werden.

Saphir ist sehr hart und haltbar und bietet eine gute Transmission vom UV bis zum IR. Es kann ideal für IR-Lasersysteme, Spektroskopie und für Geräte in rauen Umgebungen eingesetzt werden.

Kalziumfluorid hat eine geringe Absorption und eine hohe Zerstörschwelle von 0,2 – 7 μm. Es kann ideal für die Spektroskopie, in der Halbleiterfertigung und in der kryogenisch gekühlten Wärmebildgebung eingesetzt werden.

Zinkselenid hat einen geringen Absorptionskoeffizienten und eine hohe Resistenz gegen Temperaturschocks. Es ist ideal für CO2-Lasersysteme und die thermische Bildgebung.

Silizium ist ein kostengünstiges Substrat mit geringer Dichte für gewichtskritische IR-Anwendungen. Es ist ideal für die Spektroskopie, Laser-Systeme im mittleren IR-Bereich und die Terraherzbildgebung.

Germanium hat einen hohen Brechungsindex sowie eine hohe Knoop-Härte und transmittiert im mittleren und fernen IR. Es ist ideal für die thermische Bildgebung, FLIR und IR-Anwendungen in rauen Umgebungen.

Magnesiumfluorid ist extrem robust und haltbar und besitzt eine sehr hohe breitbandige Transmission vom DUV bis zum mittleren IR-Bereich. Es ist ideal für UV- und IR-Lasersysteme, Geräte in rauen Umgebungen und Umgebungen mit hohen Vibrationen.

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